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管式炉

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产品描述

设备概述

GCVD（Z）系列中温真空气氛管式炉专门设计用于中温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，电阻丝螺旋缠绕刚玉管方式加热，优质99刚玉管炉膛, 系统可预抽真空，气体采用质量/浮子流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制、高低温区设计隔板结构，有效的实现温度梯度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。

功能描述

GCVD系列管式炉采用高纯石英管或高纯氧化铝管作为炉管，工作温度区间800℃至1700℃，客户可根据实际需要选购。该系列设备的控制系统运行稳定，具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、炉膛温度均匀性高、可通气氛抽真空等特点。

应用领域：广泛应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产。

设备型号	GCVD-1200		GCVD-1400	GCVD-1600
最高温度	1200℃		1400℃	1600℃
工作温度	1100℃		1300℃	1550℃
加热元件	含钼电阻丝		硅碳棒	硅钼棒
热电偶	K type		S type	B type
炉管	高纯石英		高纯99刚玉	高纯99刚玉
温区个数	1-3个（根据客户需求定制）
加热速率	0-20℃/min
控温精度	±1℃
电压	220/380V
标准规格
炉管尺寸(mm)	加热区长度 (mm)		炉管尺寸(mm)	加热区长度 (mm)
Φ30	300		Φ80	300
Φ40	300		Φ80	450
Φ40	450		Φ100	450
Φ60	300		Φ120	450
Φ60	450		Φ150	450
GCVD-□/□/□选配功能	/□	/□
	Z		真空系统：单机机械泵/机械泵加扩散泵
		Q	气氛系统：浮子流量计/质量流量计
更多规格可以根据工艺要求定制